我们是以晶圆清洗机、蚀刻设备、旋转干燥机等半导体制造设备为中心的制造商。
我们作为一家可以根据客户需求转机的公司,从小型研究机器到大规模生产的自动化设备。
我们还利用这些技术开发和制造LCD、PDP、有机EL、FED、LED等清洗设备。
所有产品都是内部制造的,因此我们可以以低廉的价格提供它们。
如果您对其他公司产品的维护有任何问题,请随时与我们联系。
它广泛用于8×6英寸组合使用,用于硅或化合物半导体晶片的少量加工,以及紧凑型桌面干燥。
操作非常简单,将晶圆放在转盘上后,只需放下顶盖并按下启动按钮即可安全地旋转干燥完成。
型号 | SPD100・200・400・600・800 |
---|---|
4载体类型 | (2载波类型也可用) 但是,8英寸和12英寸是2托架类型 |
转速 |
排水0~1200rpm(可变) 正常400~600rpm(可变) 干燥0~1200rpm(可变) 正常700~1000rpm(可变) |
处理时间 |
排水0~999.9sec(可变) 干燥0~999.9sec(可变) |
ULPA过滤器 | 0.1um、修复率99.9995%以上 |
盖 | 气缸自动开闭 |
排气 | 带自动阻尼器,主体后部一处 |
轴密封剂 | 特殊密封 |
电源 | 3φAC200V 6KVA 50/60Hz |
定制产品300mm,在盖子上内置HEPA或ULPA过滤器,通过引入清洁空气提高腔室内的清洁度。
它是台式机,主体很轻,所以很容易移动。
主体和腔体均由PVC制成,不会生锈。
型号 | SPD100・200・400・600・800 |
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4载体类型 | (2载波类型也可用) 但是,8英寸和12英寸是2托架类型 |
转速 |
排水0~1200rpm(可变) 正常400~600rpm(可变) 干燥0~1200rpm(可变) 正常700~1000rpm(可变) |
处理时间 |
排水0~999.9sec(可变) 干燥0~999.9sec(可变) |
ULPA过滤器 | 0.1um、维修率99.9995%以上 |
盖 | 气缸自动开闭 |
排气 | 带自动阻尼器,主体后部一处 |
轴密封剂 | 特殊密封 |
电源 | 3φAC200V 6KVA 50/60Hz |