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介绍中科集芯产品・技术・解决方案。对生产现场的产品特性进行简单易懂的说明。
可以按产品名称或类别搜索和下载。
碳化硅的话,需另外咨询规格非常广泛的应用业绩,制造数量在4位数,可以给客户提供最佳清洗工艺方案。
无盒式自动清洗装置是只保持和清洗晶片的装置。最大支持300mm。
我们的RCA清洗・酸/碱蚀刻、抗蚀剂剥离、石英夹具、管道清洗设备等专用液体系统设备在技术上也很出色。
我们为最大300mm晶圆提供单盒、垂直和对置旋转干燥机。
用于半导体和 FPD 等制造过程中的精密清洁应用半导体工艺用臭氧水发生器的定制制造和销售
最高工作温度:1150℃,冷却后温度:45℃,温度均匀性:±5℃。
Semiconductor Manufacturing Equipment
半导体元器件是通过在称为晶片的高纯度单晶结构硅衬底上使用微细加工技术并重复它来制造的。作为半导体制造设备用晶圆和功率器件清洗设备的专业制造商,中科集芯支持先进设备用300mm晶圆和物联网/车载用200mm晶圆的制造工艺。
半导体制造
半导体设备制造
Wafer And Power Device Cleaning Technology
在半导体形成过程中,它是制造设备生产过程的过程。中科集芯利用其日本母公司在清洗设备的顶级技术制造半导体制造设备,并将其提供给顶级制造商。适用于所有湿法加工过程。我们根据客户需求定制RCA清洗、酸/碱蚀刻、抗剥落、石英治具、管材清洗设备等。它支持半导体的高功能和高性能。
晶圆清洗技术系列
功率半导体清洗技术系列
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